This document specifies the structure model with related parameters, file format and fitting procedure for characterizing critical dimension (CD) values for wafer and photomask by imaging with a critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM) b
26-02-2024
52
مقاييس
تحليل الشعاع الميكروني
اختبارات
880 ج.م.
ISO 21466:2019
متبناه
غير الزامى
37.020